DF-760E独特的同时监测微量水分和微量氧分析仪，是一个紧凑的集成的解决方案，用于集成电路板制造的超高纯大宗气体监测，业界性能领先的仕富梅非消耗型的库伦电量E-sensor和强大的可调谐二极管激光光谱技术集成在一个紧凑的单元里。

 DF-760E测量超低含量的污染物的H2和O2在内的背景气体N2, H2, He, O2 and Ar (仅氧气中的水分)的混合气。

 DF-760E提供了一个非常低的业界领先的检测下限： 200ppt（H2O）/ 45ppt（O2）。

 提供快速的响应速度，是理想的在半导体晶圆厂进行泄漏检测和质量检查的应用，无与伦比的稳定性和避免酸气的损伤。

 这种优秀的性能体现在一个低维护设计，可恢复的零漂移传感技术，不需要进行校准。

 独特的行业解决方案为PPt级检测水含量和氧气。

 独特的行业解决方案。

 较宽泛的检测量程：0-20ppm~ 0-2ppb min (H20) /0-20ppm ~ 0-1ppb min. (O2)。

 提供一个盒子测量微量的H2O和O2的双路分析的解决方案。

 一台分析仪可以用于多个背景气体：氮气，氢气，氦气，氩气和氧气。

 强大的TDL和非消耗的库仑电量传感仅需要最少的维护。

 零传感器漂移大大延长了校准间隔。

 电子库伦E传感器可以避免酸气的损伤。

 集成电路板厂大宗气体质量控制。

 泄漏检测。

 符合IEC 61010-1

 超压II类，污染度2

 欧盟电磁兼容认证

 欧盟低压认证

 尺寸：483mm (19”) Wide x 266mm(10.5”) High x 608mm (23.9”) Deep 

 重量：31.8kg (70lbs)