DF-760E独特的同时监测微量水分和微量氧分析仪,是一个紧凑的集成的解决方案,用于集成电路板制造的超高纯大宗气体监测,业界性能领先的仕富梅非消耗型的库伦电量E-sensor和强大的可调谐二极管激光光谱技术集成在一个紧凑的单元里。
DF-760E测量超低含量的污染物的H2和O2在内的背景气体N2, H2, He, O2 and Ar (仅氧气中的水分)的混合气。
DF-760E提供了一个非常低的业界领先的检测下限: 200ppt(H2O)/ 45ppt(O2)。
提供快速的响应速度,是理想的在半导体晶圆厂进行泄漏检测和质量检查的应用,无与伦比的稳定性和避免酸气的损伤。
这种优秀的性能体现在一个低维护设计,可恢复的零漂移传感技术,不需要进行校准。
独特的行业解决方案为PPt级检测水含量和氧气。
独特的行业解决方案。
较宽泛的检测量程:0-20ppm~ 0-2ppb min (H20) /0-20ppm ~ 0-1ppb min. (O2)。
提供一个盒子测量微量的H2O和O2的双路分析的解决方案。
一台分析仪可以用于多个背景气体:氮气,氢气,氦气,氩气和氧气。
强大的TDL和非消耗的库仑电量传感仅需要最少的维护。
零传感器漂移大大延长了校准间隔。
电子库伦E传感器可以避免酸气的损伤。
集成电路板厂大宗气体质量控制。
泄漏检测。
符合IEC 61010-1
超压II类,污染度2
欧盟电磁兼容认证
欧盟低压认证
尺寸:483mm (19”) Wide x 266mm(10.5”) High x 608mm (23.9”) Deep
重量:31.8kg (70lbs)
010-88572008
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